SI 파츠 링
특징
Czochralski 공법은 고순도 폴리 실리콘(Poly Silicon)을 도가니에 녹인 후, 회전하는 씨드(Seed)를 천천히 인출하며 단결정을 성장시키는 방식입니다. 이 과정에서 온도, 회전 속도, 인출 속도 등을 정밀하게 제어함으로써, 균일한 결정 구조와 낮은 결함 밀도의 고품질 잉곳을 생산할 수 있습니다. 이렇게 성장된 단결정 실리콘은 반도체 제조의 핵심 소재로 사용됩니다.
제품특징
장점
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정밀성
반도체 제조 공정에서 요구하는 높은 정밀도를 완벽하게 충족합니다.
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내구성
고온 · 고압 환경에서도 장기 사용이 가능하여 유지보수 비용을 절감합니다.
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내식성 및 내화학성
화학물질과 고온에 대한 내성을 제공해 공정 안정성을 향상시킵니다.
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클린룸 호환성
클린룸 오염을 최소화하여 반도체 제품의 품질 향상에 기여합니다.
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맞춤형 제작
크기와 두께의 SI 파츠 디스크로 공정에 최적화된 솔루션을 제공합니다.